华盛顿特区智库：中国芯片光刻技术发展滞后
据一家有影响力的华盛顿特区智库称，中国在推进半导体光刻技术方面面临重大挑战，这对其实现技术自给自足以及在与美国的贸易战中占据优势地位构成了一大障碍。安全与新兴技术中心（CSET）指出，中国在该技术领域的主要供应商仅占有老一代光刻技术市场4%的份额。这家位于华盛顿特区的独立智库经常为美国各政府机构提供咨询。
CSET的研究人员发现，中国企业“在制造设备方面取得了显著进展”，包括在某个特定业务领域与日本持平。但芯片制造设备制造商上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）仍然远远落后于先进光刻技术的领导者阿斯麦（ASML）及其规模较小的日本同行。研究人员在周一的一份报告中写道：“这表明光刻仍然是关键的瓶颈。”
由于美国主导的、长达数年的出口管制，总部位于荷兰的阿斯麦一直未能向中国运送其最先进的极紫外（EUV）光刻系统。2023年，中国科技巨头华为发布了一款中国制造的7纳米芯片，并得到了中芯国际的生产支持，令美国政界人士震惊，但由于缺乏先进的光刻系统，其进展很快受到了阻碍。
CSET的研究人员分析了每家公司提供给加拿大芯片咨询公司TechInsights的收入信息。该数据集不包括公司可能正在开发的供内部使用的工具，因此华为等公司在制造先进设备方面的努力可能未被捕捉到。
分析大模型：gemma2
得分：-50
原因：
文章主要强调了中国在芯片光刻技术方面的落后，以及美国出口管制对中国相关产业的限制，暗示中国在关键技术领域受制于人，整体基调偏负面。
原文地址：China Lags in Chip Lithography, Influential DC Think Tank Says
新闻日期：2025-07-14
